DB31374‑2024《半导体行业污染物排放标准》
DB31/374‑2024《半导体行业污染物排放标准》标准解读
参考来源:上海市生态环境局,沪环法〔2024〕41 号公告;2024‑02‑29 发布,2024‑05‑01 实施;替代旧版 DB31/374‑2006,上海强制性地方行业排放标准上海市人民...。
一、标准基础定位
- 适用对象:上海市辖区内半导体、集成电路、芯片制造、晶圆加工、封装测试、半导体研发中试车间;覆盖生产工艺废气、酸碱废气、有机 VOC 废气、厂区内无组织逸散、废水排放管理;用于环评、环保设施验收、排污许可、日常执法监管。
- 不适用范围
- 半导体企业内办公楼、展厅、会议室、研发办公区等人居室内环境;室内空气品质不受本排放标准管控,人居验收标准:GB/T 18883‑2022。
- 不属于半导体行业的普通工业企业废气,不能执行本标准,废气管控执行 DB31/ 1025‑2024《大气污染物综合排放标准(上海)》。
- 标准优先级
半导体企业废气→优先 DB31/374‑2024;该标准没有做出规定的指标,再参照 GB37822‑2019(VOC 无组织)、DB31/1025‑2024 补充管控。
二、核心管控指标(节选关键限值,单位 mg/m³)
1、排气筒‑有组织排放限值

额外强制条款:VOCs 废气处理设施最低去除效率≥80%;低浓度废气(NMHC<200mg/m³)豁免去除效率考核,但浓度限值依旧执行 70mg/m³。
2、厂区内无组织排放监控(附录 A,重中之重)
对标 GB 37822‑2019 厂区内监控思路,上海标准限值更严:
- NMHC(厂区内,1 小时平均):20 mg/m³
监控点位:生产车间门口、窗外、过道、仓库外、废气源头周边; 监管逻辑:就算你排气筒达标,如果车间废气无组织往外飘、厂区内点位超标、异味飘到厂外扰民,依旧判定违规处罚。
3、企业边界(厂界)无组织限值
管控恶臭、挥发性有机物向外扩散至周边居民区、道路;一旦被居民投诉异味,环保部门会在厂界布点检测,对照此标准执法。
三、DB31/374‑2024 和相关标准优先级关系(上海项目必看)
- 有国家行业排放标准(制药 GB37823‑2019 等)→优先行业国标
- 无行业国标 → 强制执行 DB31/374‑2024
- 厂区内无组织 VOC 管控通用要求:同时参照 GB37822‑2019 + DB31/374‑2024 附录 A,上海地方限值更严,从严执行
- ⚠️室内≠厂区:办公室、展厅、会议室内部空气品质,不受 DB31/374‑2024 约束;但车间废气溢出到厂区、飘进办公区,则废气溢出部分属于本标准管控范畴。
四、上海地区项目高频痛点(DB31‑374 落地后)
- 很多研发实验室、企业展厅、样品间、仓库,没有独立排气筒;溶剂、涂料、板材异味缓慢逸散,开窗后废气向外扩散,极易触发厂区内 NMHC 超标、居民异味投诉;
- 低浓度弥散 VOC,风量小,业主不想上大型 RTO / 活性炭箱;
- 车间密闭改造难度大,老旧厂房工位无法全部做到负压集气。
五、欧雷塞斯适配 DB31/374‑2024 的业务解决方案
核心原则:有组织工艺废气优先做密闭 + 集中废气治理(环保工程);欧雷塞斯净化设备定位:无组织弥散废气兜底、降低车间外溢风险、阻断异味向外扩散,不可替代排气筒末端治理
场景 1:研发实验室、样品间、小型试验工位(上海科创园、产业园高频场景)
- 合规前置方案
- 优先通风橱、局部排风,高浓度废气接入排气筒达标排放,满足 DB31‑374 有组织限值;
- 严禁高浓度溶剂废气直接开窗向外排放。
- 欧雷塞斯兜底净化方案
- 空间循环商用净化机组,处理通风橱逃逸出来的弥散 TVOC、苯系物;降低室内污染物浓度,从源头减少开窗外溢风险;
- 新风回风管道加装 VOC 净化模块,室内空气循环降解;
- 效果定位:降低车间向外溢出的 VOC 负荷,辅助厂区内无组织点位达标,减少异味扰民风险。
场景 2:企业展厅、新材料展示区、地下展厅、样品展示柜异味
- 展厅不属于工业生产工位,无工艺废气,不受 DB31‑374‑2024 排气筒条款管控;
- 风险点:展厅板材、展品缓慢释放 TVOC、异味;开窗排风后气味飘出厂区,引发周边投诉;
- 方案:商用空气净化设备、中央空调风道净化模块,闭环内循环净化,减少对外排风频次,降低异味外溢风险,同时展厅内部人居空气达到 GB/T18883‑2022 标准。
场景 3:生产车间、仓库,已经建有排气筒,但是仍然存在无组织弥散外溢
- 先核查:集气罩负压、密闭性,保证主工艺废气进入排气筒达标排放(DB31‑374 强制项);
- 空间补充净化:车间内多点布置循环净化机组,降解逃逸 VOC,降低门窗附近污染物浓度,减少向外飘散;
- 岗位局部净化单元布置于出料、取样点位,降低呼吸带浓度。
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